手術室凈化工程對濕度的控制是比較嚴格的,如果濕度過高會怎樣,凈化工程濕度過高產生的問題多。相對濕度超過百分之55時,冷卻水管壁上會結露,如果發生在精 密裝置或電路中,會引起事故。
手術室凈化工程相對濕度在百分之50時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以。相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于百分之30時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產適合溫度范圍為百分之35—45。
現在對手術室凈化工程的要求越來越高,現在凈化手術室的要求越來越高了,通過采用一整套潔凈創造和保持一 定空間內達到規定的潔凈度,是靠物理作用而不是靠化學方法。因此,手術室須要嚴格遵守凈化原理,才能的功能,實現切斷手術感染途徑和避免圍手術期手術感染的終目的。